조금 더 자세한 정보를 장비 공지사항에 업로드 하였습니다.↑ 확인하시고 이용에 참고하시기 바랍니다.

X-선 광전자분광법(XPS)은 고에너지 X선을 고체 샘플에 조사하여 표면의 원자 core level에서 방출되는 광전자의 운동에너지를 측정하는 분석 기법입니다.

입사한 X선의 에너지와 방출된 전자의 운동에너지를 이용하여 전자의결합에너지(binding energy)를 계산할 수 있으며, 각원소와 결합 상태에 따라 고유한 결합에너지를 나타냅니다. 이를 통해 시료 표면의 원소 조성 및 화학적결합 상태를 분석할 수 있습니다.

XPS는 비파괴적인 방식으로 약10 nm 이내의 표면 영역을 분석할 수 있으며, Ar sputter gun을 이용한 depth profile을 통해 깊이에 따른 조성 및 화학 상태 변화도 분석할 수 있습니다.

1. Electron analyser with Lens system 

- Type: Spherical sector analyser or equivalent 

- Mean diameter: 250 mm or bigger 

- Operation mode: constant analyzer energy (CAE mode)  or equivalent 

- Min. energy step size: 3 meV or lower

- Ultimate Energy resolution of Ag 3d5/2 peak: ≤ 0.5 eV  FWHM

- Ultimate spatial resolution: ≤ 50μm, or lower

- XPS on Insulators: C 1s energy resolution: ≤ 0.85eV

- Pass Energy: 1 – 400 eV continuously selectable 

- Analyser Housing: Mu-metal shielded or equivalent 

- Detector: 128-channel detector 

- Max. Sensitivity 4,000,000 cps at 1 eV FWHM on Ag3d5  or higher 

2. Micro-focus Monochromatic X-ray source  

- Anode material: Al anode 

- Type : Micro-focus Monochromator 

- Rowland circle: 250 mm or bigger

- Max. Power : 72 Watt or less

3. UHV Analysis chamber

- Material : UHV compatible chamber

- Ultimate vacuum : 5×10-9mbar or more

- Pumping system : 

     (1) Titanium Sublimation Pump

     (2) Turbo-molecular pump : 260l/s or more

     (3) Dry pump backing pump

4. Ion source for depth profile

- Energy range : 0.5keV to 4keV or wider

- Max. beam current

     (1) 200nA or more at 500eV

     (2) 400nA or more at 4keV

- Chamber Pressure : 2×10-7mbar or more

5. Fast entry chamber with transfer mechanism

- Material : UHV compatible stainless steel

- 260l/s or more Turbo-molecular pump & Dry backing pump

6. High precision manipulator

- High precision, automated specimen stage with internal stepper motors

- Maximum specimen dimensions : 60x60x20 mm or more

- Sample Tilt : ±90 degree or equivalent

7. Combined Low Energy Electron / Ion flood source for Charge Neutralisation

- Type : dual-beam low energy electron / ion source

- Electron beam energy : 0~5eV or wider

- Electron beam emission : 250µA or more

- Usable gases for ion flood : Inert gases. Argon is recommended​ 

교내 : 60,000원(시료당청구)

교외 : 90,000원(시료당청구)

※ 별도 문의 후 예약 필수

예약시 비고란에 측정 샘플 수량, 측정 원소 기재 부탁드립니다. 

​예약은 1타임만 걸어두시면 됩니다.

예약시간에 측정하는 것이 아니라 예약일에 샘플을 보내주시면 순차적으로 분석 진행됩니다.

※ 분석료 안내

-교내이용자​

Surface 60,000/개 (기본 원소 5개+Survey spectrum)

+ 원소 추가 10,000/원소

depth 180,000/개 (기본 2시간)

+ 30분 추가 40,000원

Fitting 25,000/spectrum

Etching 20,000/회

이용료 50% 할인 적용 대상 교내 학과 (~27년 2월)

• 기계시스템학부
• 첨단소재 전자융합공학부 (지능형전자시스템, 신소재물리전공)
• 화공생명공학부
• 화학과

- 교외이용자

Surface 90,000/개 (기본 원소 5개+Survey spectrum)

+ 원소 추가 10,000/원소​

depth 270,000/개 (기본 2시간)

+ 30분 추가 40,000원

​

Fitting 25,000/spectrum​

Etching 20,000/회 

(기본 원소에는 C1s가 포함됩니다.​)